至纯科技S300D 12寸单片式清洗设备成为“2025年度上海设计100+全球竞赛正式入选项目”。2025年9月25日-9月28日，至纯科技参与由上海市人民政府主办，联合国教科文组织联合主办的2025世界设计之都大会（WDCC2025），在主会场与闵行分会场展出设备模型并参与活动。

   至纯科技董事长蒋渊女士受邀参与闵行分会场圆桌交流环节，围绕“设计无界 生态智造”的主题，结合企业的实践，分享了绿色生态设计在政策响应、技术研发、产品创新、绿色建造等方面的具体举措与成效。绿色设计已成为企业提升竞争力、实现可持续发展的关键抓手。

“上海设计100+”全球竞赛是挖掘全球设计力量、展示优秀设计成果的前沿风向标，是培育设计人才、孕育设计企业的创新孵化器，也是上海深化一流设计之都建设的重要窗口。通过设计铸造城市品牌、设计赋能产业创新、设计优化公共服务、设计打造城市空间、设计点亮美好生活五个方面，持续打造“设计创新型城市”典范，探索设计高质量发展之路。

至纯科技此次入选的S300D 12寸单片式清洗设备，凭借其卓越的工艺设计、领先的技术创新以及对绿色制造理念的深度践行，为半导体制造行业带来了创新性的工艺解决方案,体现了公司在半导体装备领域的设计实力与品牌影响力。该设备专为满足先进制程需求而设计，以SPM工艺为技术蓝本，通过创新的4tower*3 chamber架构，实现了对当前80%工艺需求的全面覆盖。其设计理念遵循高效性和精确性的原则，旨在为半导体制造企业提供更可靠的清洗解决方案。

S300D采用了多项创新设计。在腔体洁净能力方面，通过将腔室有效体积缩小2/3，并搭配高效遮挡板设计，设备实现了换气率提升一倍的显著效果。全密封腔室与封闭式bowl设计的结合，有效避免了化学品交叉污染问题。配合ACC自动清洁功能进一步加强设备的自洁净能力。

在药液排放与回收方面，其设计体现了“精确控制”的设计理念。通过多层结构分离气液流动的设计，设备能够选择指定药液回收与排放层，配合工艺配方，实现精准排放回收。这种设计大幅减少了化学品浪费，体现了对资源高效利用的追求。另外其管路布局基于流速最优与温损最小化原则重构，进一步提升了排液及chamber match效率，为工艺稳定性和一致性提供了有力保障。

S300D设备是工业极致需求的专业设备，同时引入了工业设计美学，美感设计上充分论证和设计。

至纯科技将继续秉持“专注、创新、卓越”的发展理念。创新驱动、精益制造，以技术为根基，持续加大研发投入。积极参与产业链协作，助力中国半导体产业实现更高质量、更可持续的发展。至纯科技也将依托上海作为“世界设计之都”的平台优势，推动工业设计与高端制造深度融合，以更具前瞻性的产品解决方案，为客户创造长期价值，致力于成为领先的半导体装备与工艺服务提供商。